Nanostructure and thermoelectric properties of ReSi~2~+~/~-~x thin films

• Autores: D. Hofman, J. Schumann, C. Kleint, J. Thomas
• Localización: Analytical and bioanalytical chemistry, ISSN 1618-2642, Vol. 374, Nº 4, 2002, págs. 695-698
• Idioma: alemán
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