Los nuevos requisitos para el registro de la propiedad intelectual, plazos de aceptación y repercusiones

• Autores: Ángel Vian Ortuño
• Localización: Química e industria: QeI, ISSN 0033-6521, Nº. 12, 1985, págs. 835-837
• Idioma: español
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