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Ajuste de las coronas e.max fabricadas con tecnología convencional y tecnología CAD/CAM: estudio comparativo

  • Autores: Atsushi Miwa, Hidehiro Kori, Yoshihiro Tsukiyama, Rika Kuwatsuru, Yasuyuki Matsushita, Kiyoshi Koyano
  • Localización: Revista internacional de prótesis estomatológica, ISSN 1139-9791, Vol. 19, Nº. 1, 2017, págs. 69-74
  • Idioma: español
  • Texto completo no disponible (Saber más ...)
  • Resumen
    • Objetivo: El objetivo de este estudio fue examinar la precisión de ajuste de las coronas e.max, investigando los gaps marginales internos. Materiales y métodos: En el experimento 1, se fabricaron 60 coronas e.max con tecnología CAD/CAM (diseño/fabricación asistidos por ordenador). Las coronas se prepararon a partir del escaneo óptico de dientes artificiales (grupo OP) o del escaneo de un modelo de escayola según una impresión de silicona (grupo M). Los espacios para el cemento se ajustaron en 90, 120 y 150 um. Los gaps marginales e internos de las coronas se compararon entre seis condiciones (OP90, Opl20, Op150, M90, M120, M150). En el experimento 2 se compararon las coronas e.max CAD del grupo Op (grupo CADop) y el grupo M (grupo CADm) con coronas e.max Press (grupo REsss) midiendo los gaps marginales e internos de las coronas y aplicando la prueba de comparación múltiple de Scheffe. El nivel de significación se estableció en P<0,05. Resultados: En el experimento 1, el gap marginal del grupo M90 fue significativamente superior al de los grupos Op120 y Op150. El gap marginal del grupo M90 fue significativamente superior al del grupo M150. Aunque no se obtuviera ninguna diferencia estadísticamente significativa en el gap marginal entre los tres grupos, el gap interno del grupo CADm fue significativamente superior al del grupo Press. Conclusiones: Pese a que la variación en el ajuste del espacio del cemento y en las técnicas de fabricación tuviera influencia en la precisión, las coronas e.max CAD fabricadas con un escaneo óptico de dientes de melamina alcanzaron un ajuste clínicamente aceptable.


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