Resumen de Posibilidades del depósito mediante ablación con láser de óxidos electroópticos y ferroeléctricos
- español
La técnica de depósito mediante ablación con láser es particularmente adecuada para la formación de láminas delgadas de óxidos con varios cationes, por ello se ha aplicado a la preparación de óxidos superconductores, ferroeléctricos y electroópticos. En este trabajo se señalan las ventajas de la técnica y simultáneamente se enfatizan algunos mecanismos secundarios que conducen a dife-rencias en la composición entre el blanco y la lámina. Específicamente se comentan las modificaciones del blanco, los procesos de dispersión en la fase vapor, la interdifusión entre la lámina y el substrato y la evaporación de especies de la lámina. Estos fenóme-nos se ilustran mediante el depósito de óxidos de niobio y titanatos de plomo. La comprensión de los mecanismos relevantes para cada material permite optimizar las condiciones depósito hasta obtener láminas con la composición y cristalinidad adecuadas para algunas aplicaciones microelectrónicas y ópticas.
- English
Pulsed laser deposition technique is very well suited for thin film preparation of multicomponent oxides. It has been applied to the deposition of superconductor, ferroelectric and electrooptics oxides. The main advantages of the technique are briefly summarised in this review, moreover some physical mechanisms leading to a film composition departure from the target one are analysed. Particular attention is paid on the laser-induced modification of the target, scattering in the plume, film diffusion into the substra-te and reevaporation from the film. These phenomena are illustrated with niobate and lead titanate oxides. The proper understan-ding of these phenomena allows the optimisation of the deposition parameters to achieve specific crystalline films suited for some microelectronics and optical applications.
