Efecto del voltaje de polarizacion en el sustrato de acero aisi m2 sobre algunas características de la monocapa tin depositada por la técnica papvd.

• Autores: Rodolfo Rodríguez Baracaldo, Norma Hoyos
• Localización: Scientia et Technica, ISSN 0122-1701, Vol. 3, Nº. 26, 2004
• Idioma: español
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• Resumen

  • El presente trabajo analiza el efecto del potencial de ionización del cátodo sobre las propiedades de dureza, adherencia, espesor, microestructura, fases y tensiones residuales presentes, en una monocapa de TiN obtenida por el proceso de deposición física en fase vapor asistida por plasma (PAPVD). Además establecer la relación existente entre estas propiedades y características del recubrimiento con los diferentes potenciales de polarización empleados. Las técnicas de caracterización de recubrimiento empleadas en el presente trabajo incluyen pruebas mecánicas de micro dureza y adherencia, análisis cristalográfico y morfológico, y determinación de tensiones residuales.