Caracterización con espectroscopía óptica de emisión de un plasma utilizado en la producción de recubrimientos de tio2.

• Autores: Hernando Jiménez Forero, Cristian Molina González, Elisabeth Restrepo Parra, Alfonso Devia Cubillos
• Localización: Scientia et Technica, ISSN 0122-1701, Vol. 3, Nº. 26, 2004
• Idioma: español
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• Resumen

  • Por medio de espectroscopia óptica de emisión, se estudió un plasma utilizado en la producción de recudimientos de TiO2. El sistema está compuesto por una cámara de vacío dentro de la cual se ubican los electrodos conformados por el material del blanco (titanio) y el sustrato (vidrio). La presión de trabajo fue de 1.7 mbar. en ambiente de oxígeno y el voltaje de la descarga fue de 300 V. estos espectros fueron tomados en un rango entre 250 y 800 nm. Se realizó una identificación de las sustancias que se formaron en el plasma. Después de identificar las diferentes transiciones, se procedió al cálculo de la temperatura y la densidad del plasma, utilizando la relación entre línea - continuo y entre líneas de diferente grado de ionización.