Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

• Autores: M. Arroyave, J. M. Jaramillo, M. Arenas, C. Saldarriaga, J. Jaramillo, V. Londoño
• Localización: Ingeniare: Revista Chilena de Ingeniería, ISSN-e 0718-3305, ISSN 0718-3291, Vol. 23, Nº. 1, 2015, págs. 85-91
• Idioma: español
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