Resumen de Crecimiento de películas delgadas de nitruro de carbono por deposicion con láser pulsado.

Henry Riascos Landázuri, Jaime Andrés Pérez Taborda, Lina Maria Franco

• español

  Hemos crecido películas delgadas de nitruro de carbono (CNx) mediante el Deposición por Láser Pulsado (DLP), usando como blanco grafito de alta pureza y como substrato silicio. Las películas fueron crecidas en un ambiente de gas de nitrógeno, variando la presión del gas, para dos valores de la fluencia del láser y dos valores de la temperatura del substrato. Estas películas fueron caracterizadas por Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) y espectroscopia Raman. La rugosidad de las películas depende tanto de la presión del gas de trabajo como de la temperatura del substrato, sus estructuras son amorfas presentando los picos D y G, típicos de las estructuras tipo fulereno.

• English

  We have growth Carbon nitride (CNx) thin films by Pulsed Laser Deposition (PLD), on graphite target of high-purity and silicon substrate. The films were growth in a nitrogen ambient gas at different gas pressure, two values of fluence laser and two values of substrate temperature. Thin Films were characterized by Atomic Force Microscopy (AFM) and Raman Spectroscopy. AFM analysis reveals that the surface roughness depends of gas pressure and temperature substrate and, Raman analysis films shows an amorphous structure and doublepeak arrangement, D and G, typically of a fullerene-like microstructure.