Curvas de presión para el crecimiento de recubrimientos de TiAlN por la técnica Magnetrón Sputtering Tríodo

• Autores: Diana M. Devia Narvaez, Diego F. Devia-Narvaez, Harold Duque-Sánchez
• Localización: Scientia et Technica, ISSN 0122-1701, Vol. 18, Nº. 4, 2013, págs. 646-650
• Idioma: español
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• Resumen

  • Se depositó recubrimientos de Nitruro de Titanio (TiAlN) por medio de la técnica Magnetrón Sputtering Tríodo variando la presión. El análisis se realizó aumentando y disminuyendo la presión de trabajo, para determinar las curvas de presión. Estas curvas se realizaron en una atmosfera de N2/Ar y utilizando un blanco de Titanio-Aluminio. Se observó un cambio en la microestructura a partir de los análisis de difracción de rayos X.