Preparación de capas finas por deposición química desde fase vapor inducidas por haces de iones: (IBICVD)

• Autores: J. C. Sánchez López, V.M. Jiménez, A. Fernández, Jaime Espinós Solís, Alfonso Caballero Martínez, Agustín Rodríguez González-Elipe, D. Leinen
• Localización: Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, ISSN 0366-3175, Vol. 36, Nº. 2-3, 1997, págs. 363-367
• Idioma: español
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  • El método de preparación de capas finas denominado Deposición desde Fase Vapor Inducida por Haces de Iones implica el bombardeo de un sustrato con iones acelerados, con energías cinéticas comprendidas entre 200 y 1000 eV, mientras que se dirige hacia su superficie un flujo de un precursor organometálico volátil cuya descomposición es inducida por los iones impactantes. De esta manera se pueden preparar capas finas de diversos materiales. El presente trabajo describe los principios del método y presenta algunos ejemplos de capas finas de materiales óxido y nitruro que han sido preparadas con él: TÍO2, PbTi03, AIN y Sn02, este último siguiendo un patrón bidimensional (litografía).