El método de preparación de capas finas denominado Deposición desde Fase Vapor Inducida por Haces de Iones implica el bombardeo de un sustrato con iones acelerados, con energías cinéticas comprendidas entre 200 y 1000 eV, mientras que se dirige hacia su superficie un flujo de un precursor organometálico volátil cuya descomposición es inducida por los iones impactantes. De esta manera se pueden preparar capas finas de diversos materiales. El presente trabajo describe los principios del método y presenta algunos ejemplos de capas finas de materiales óxido y nitruro que han sido preparadas con él: TÍO2, PbTi03, AIN y Sn02, este último siguiendo un patrón bidimensional (litografía).
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