Se presentan dos métodos de preparación de películas delgadas de los denominados asistidos por bombardeo iónico: la deposición química desde fase vapor inducida por bombardeo iónico y la deposición asistida por bombardeo iónico con dos haces. Estos métodos se aplican a la preparación de películas delgadas de TÍO2, PbTi03 y CN^ (nitruro de carbón). Se describe la caracterización de estas películas por Difracción de Rayos X de ángulo rasante (DRX), Espectroscopia de Absorción de rayos X (XAS) y Microscopía Electrónica de Transmisión (TEM) con accesorio de Espectroscopia de Pérdidas de Energía de Electrones (EELS).
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados