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Patente como modelo de utilidad: reactor dual asistido por plasma generado por microondas para ataque iónico y deposición de materiales

    1. [1] Universidad EAFIT

      Universidad EAFIT

      Colombia

    2. [2] Mg. en Física
  • Localización: Ingeniería y ciencia, ISSN-e 1794-9165, Vol. 8, Nº. 16, 2012, págs. 337-338
  • Idioma: español
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