Study of the stress-related vacancy generation in silicon due to silicon nitride films

• Autores: F. Flores Gracia, J. Carrillo López, M. Aceves Mijares
• Localización: Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 45, Nº. 2 (ABR), 1999, págs. 156-162
• Idioma: español
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