Alternative method to determine the bulk etch rate of LR-115 detectors

• Autores: D. Palacios, L. Sajo-Bohus, H. Barros, E. Greaves, Francisco Palacios Ortega
• Localización: Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 56, Nº. Extra 1, 2010 (Ejemplar dedicado a: V International symposium on radiation physics), págs. 22-25
• Idioma: inglés
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• Resumen
  • español

    Cuando se emplea el detector de trazas nucleares LR 115 las mediciones dependen críticamente del espesor removido de la capa activa durante el revelado. En este trabajo se revelaron detectores LR 115, expuestos a partículas alfa, sin agitación en una solución 2.5 N de NaOH a temperatura de 60+-1ºC y durante diferentes tiempos de revelado (desde 0.5 hasta 2.5 horas). El espesor de la capa removida se determinó por una variante del método gravimétrico, de modo que la tasa de revelado masivo se pudiera deducir a partir de mediciones del cambio de masa de los detectores. La tasa de revelado masivo obtenido fue de 3.63+-0.09 (micro)m.h(-1), la cual está de acuerdo con la mayoría de los valores reportados. Las comparaciones de nuestros resultados con los obtenidos por el método de densidad óptica están en correspondencia. Proponemos aquí un método rápido, simple y no destructivo para determinar el espesor de la capa activa del detector LR 115 con buena exactitud para mediciones rutinarias.

  • English

    The measurements using the LR 115 solid-state nuclear track detector (SSNTD) depend critically on the removed thickness of the active layer during etching. In this work, LR 115 detectors exposed to alpha particles were etched under no stirring in a 2.5 N NaOH solution at a temperature of 60+-1ºC and different etching times (from 0.5 to 2.5 hours). The thickness of the removed layer was determined by a variant of the gravimetric method, so that the bulk etch rate could be deduced from mass change measurements of detectors. The bulk etch rate was found to be 3.63+-0.09 (micro)m.h(-1), which agree with most of the reported values. Comparisons of our results with the obtained by the optical density method are in correspondence. We propose here a fast, simple, and nodestructive method to determine the active-layer thickness of the LR 115 SSNTD with good accuracy for routine measurements.