3-Dimensional Process Simulation of Thermal Annealing of Low Dose Implanted Dopants in Silicon

• Autores: E. Lampin, V. Senez, J. Herbaux, T. Hoffmann
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 83, Nº 8, 2000, págs. 1267-1274
• Idioma: inglés
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