Fabrication of Silicon Dioxide Electrets by Plasma CVD Process for Microsystems, and Evaluation of Their Long-Term Charge Stability

• Autores: M. Ichiya
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 80, Nº 1, 1997, págs. 174-183
• Idioma: inglés
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