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Bayesian spatial defect pattern recognition in semiconductor fabrication using support vector clustering.
Autores:
T. Yuan
,
S.J. Bae
,
J.I. Park
Localización:
International journal of advanced manufacturing technology
,
ISSN
0268-3768,
Vol. 51, Nº. 5-8, 2010
,
págs.
671-684
Idioma:
inglés
Texto completo no disponible
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