Estudio del Efecto de la Temperatura de Síntesis Sobre la Morfología y Estructura Cristalina de Películas Delgadas de TiO2 Preparadas por el Método CVD

• Autores: W. Vallejo, C. Quiñónez, G. Gordillo
• Localización: Revista de la Sociedad Colombiana de Física, ISSN-e 0120-2650, Vol. 41, Nº. 1, 2009, págs. 67-70
• Idioma: español
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• Resumen
  • español

    En este trabajo se hizo un estudio del efecto de la temperatura de síntesis sobre las propiedades ópticas, estructurales y mor-fológicas de películas delgadas de TiO2 (oxido de titanio) depositadas sobre sustratos de vidrio y sobre sustratos de vidrio recubiertos con oxido conductor transparente (TCO), usando el método CVD (Chemical vapor deposition). Las propiedades del TiO2 fueron estudiadas a través de medidas de difracción de rayos X (XRD), microscopia de fuerza atómica (AFM) y de microscopia electrónica de barrido (SEM). Las medidas de XRD indicaron que las películas de TiO2 depositadas a tem-peraturas inferiores a 350 °C son amorfas, y para temperaturas mayores a 350 °C estas crecen con una estructura cristalina tipo rutilo. De otro lado se encontró que la morfología es significativamente afectada por la temperatura de síntesis y el tipo de sustrato utilizado.

  • English

    In this work a study was made of the effect of the synthesis temperature on the optical, structural and morphological prop-erties of thin films of the TiO2 (titanium dioxide) grow by Chemical Vapor Deposition (CVD) on glass substrate and on glass substrate coated with a transparent conductor oxide thin film (TCO). The properties of the TiO2 fims were studied through measurements of SEM (scanning electron microscopy), AFM (atomic force microscopy) and XRD (X ray diffrac-tion). The XRD measurements indicated that the TiO2 films grown at temperature lower than 350 °C are amorphous, whe-reas the film deposited a temperature greater than 350°C grow with a rutile type polycrystalline structure. On the other hand it was found that the roughness and the grain size are significantly affected by the synthesis temperature and substrate type.