Caracterización estructural mediante elipsometría espectral de multicapas basadas en SiO2
- Autores: M. Garriga, M. I. Alonso
- Localización: Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, ISSN 0366-3175, Vol. 39, Nº. 6, 2000, págs. 729-734
- Idioma: español
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Resumen
Se han caracterizado capas de oxidos subestequiometricos de silicio (SiOx) y estructuras gruesas de guias de onda mediante elipsometria espectral. Para ello ha sido necesario desarrollar un metodo de ajuste que permita analizar en detalle espectros complicados de elipsometria, como los obtenidos en estructuras multicapa gruesas (~10 �Êm) tipicas de dispositivos modernos de optica integrada. La elipsometria es la tecnica mas adecuada para la caracterizacion detallada de esas estructuras, pero la extraccion mediante ajuste de los parametros deseados es a menudo impracticable con los metodos usuales. Nuestro metodo se basa en parametrizar las constantes opticas desconocidas con funciones spline. El metodo es aplicable tanto a materiales con una variacion suave de las constantes opticas como a materiales que presenten estructuras agudas debidas a transiciones electronicas en el rango de energia analizado.
