New mask design approach for UV laser micromachining to reduce stitching errors

• Autores: E. Mutapcic, P. Iovenitti, J. Hayes
• Localización: International journal of advanced manufacturing technology, ISSN 0268-3768, Vol. 43, Nº. 1-2, 2009, págs. 95-106
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)