Grey forecasting run-to-run control system in copper chemical mechanical polishing.

• Autores: G.-J. Wang, M.-T. Wang, F.-C. Yang, M.-L. Huang, K.-N. Loh, J. Chen
• Localización: International journal of advanced manufacturing technology, ISSN 0268-3768, Vol. 41, Nº. 1-2, 2009, págs. 48-56
• Idioma: inglés
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