Enriquecimiento en Si mediante PVD de chapas magnéticas convencionales para aplicaciones a altas frecuencias

• J. Molina Aldareguía ^[1] ; C. García-Rosales ^[2] ; J. Gil Sevillano ^[2]
  1. [1] University of Cambridge

     University of Cambridge

     Cambridge District, Reino Unido

     
  2. [2] Centro de Estudios e Investigaciones Técnicas de Gipuzkoa

     Centro de Estudios e Investigaciones Técnicas de Gipuzkoa

     San Sebastián, España

     
• Localización: Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, ISSN 0366-3175, Vol. 39, Nº 3, 2000, págs. 351-354
• Idioma: español
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• Resumen

  • El presente trabajo estudia la viabilidad de un metodo para enriquecer en Si chapas de Fe-3%Si convencionales, depositando Si en su superficie mediante PVD y sometiendolas a un tratamiento termico de difusion. Se trata de obtener chapas magneticas con un contenido en Si de un 6,5% en peso, ya que estas presentan mayor resistividad y magnetoestriccion nula, reduciendo las perdidas y solucionando los problemas de ruido a altas frecuencias.

    Las capas depositadas por PVD, de espesores ~5 �Êm, presentan buena adherencia al substrato. En cuanto al tratamiento termico, se observa que hay una velocidad de calentamiento critica entre 5 y 15��/min, por encima de la cual la pelicula se despega sin llegarse a formar intermetalicos en la intercara. A 3��/min se dan las condiciones para la formacion de intermetalicos.

    Calentando directamente hasta temperaturas de unos 800��C se obtiene una capa superficial de Fe3Si(�¿1) que, aun siendo fragil, no se despega durante el tratamiento. Un calentamiento posterior hasta temperaturas del orden de 1200��C permite la homogeneizacion de la composicion de la chapa. Existe evidencia de efecto Kirkendall en el par de difusion Fe3Si�¿1)/Fe(�¿), debido a que la difusion de Fe en Fe3Si(�¿1) es mayor que la de Si en Fe(�¿).