Removal of ortho and para-cresols by fenton and photo-fenton

• Autores: Nissrin Izaoumen, Nadia Ben Abderrazik, Khalid Riffi Temsamani, Santiago Esplugas Vidal, Enrique Brillas
• Localización: Afinidad: Revista de química teórica y aplicada, ISSN 0001-9704, Vol. 63, Nº. 526, 2006, págs. 449-453
• Idioma: inglés
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• Resumen

  • Se ha estudiado la degradación de o-cresol y p-cresol mediante procesos de oxidación avanzada (AOPs) basados en Fenton. Los experimentos fueron realizados a pH = 3 Y concentración inicial de 100 ppm para ambos creso les. A tiempos de irradiación UV (360 nm) inferiores a 10 minutos tanto el o-cresol como el p-cresol fueron completamente eliminados usando una concentración inicial en H202 de 400 ppm. Desde el punto de vista de mineralización del compuesto, el proceso Foto-Fenton (H20JFe(II)/UV) resultó mas eficaz que el proceso Fenton "H20JFe(II)). Un 90% de eliminación del carbono orgánico total (TOC) se alcanzó para 150 minutos de irradiación UV usando una concentración inicial de H202 de 60 ppm. Para ambos compuestos (0- y p-cresol), las velocidades iniciales del eliminación de TOC fueron de 60 mg C/h para Fenton y de 120 mg C/h para Foto-Fenton. Los intermedios obtenidos fueron hidroquinona, catecol, benzoquinona, ácido maléico yacido oxálico.