Removal of ortho and para-cresols by Fenton and Photo-Fenton

• Autores: Nissrin Izaoumen, Nadia Ben Abderrazik, Khalid Riffi Temsamani, Santiago Esplugas Vidal, Enrique Brillas
• Localización: Afinidad: Revista de química teórica y aplicada, ISSN 0001-9704, Vol. 63, Nº. 526, 2006, págs. 449-453
• Idioma: inglés
• Títulos paralelos:
  • Eliminació d'orto- i para-cresols mitjançant Fenton i Foto-Fenton
  • Eliminación de orto- y para-cresoles mediante Fenton y Foto-Fenton
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• Resumen
  • español

    Se ha estudiado la degradación de o-cresol y p-cresol mediante procesos de oxidación avanzada (AOPs) basados en Fenton. Los experimentos fueron realizados a pH = 3 y concentración inicial de 100 ppm para ambos cresoles. A tiempos de irradiación UV (360 nm) inferiores a 10 minutos tanto el o-cresol como el p-cresol fueron completamente eliminados usando una concentración inicial en H2O2 de 400 ppm. Desde el punto de vista de mineralización del compuesto, el proceso Foto-Fenton (H20JFe(II)/UV) resultó mas eficaz que el proceso Fenton "H2O2/Fe(II)). Un 90% de eliminación del carbono orgánico total (TOC) se alcanzó para 150 minutos de irradiación UV usando una concentración inicial de H2O2 de 60 ppm. Para ambos compuestos (o- y p-cresol), las velocidades iniciales del eliminación de TOC fueron de 60 mg C/h para Fenton y de 120 mg C/h para Foto-Fenton. Los intermedios obtenidos fueron hidroquinona, catecol, benzoquinona, ácido maléico y ácido oxálico.

  • English

    The degradation of o-cresol and p-cresol was studied using Fenton-based advanced oxidation processes (AOPs). Experiments were conducted at pH 3 and an initial concentration of 100 ppm for both cresols. At UV irradiation times (360 nm) of less than 10 minutes, both o-cresol and p-cresol were completely removed using an initial concentration in H₂O₂ of 400 ppm. From the standpoint of compound mineralization, the Photo-Fenton process (H₂O₂/Fe(II)/UV) proved more efficient than the Fenton process (H₂O₂/Fe(II)). A 90% removal of total organic carbon (TOC) was achieved after 150 minutes of UV irradiation using an initial H₂O₂ concentration of 60 ppm. For both compounds (o- and p-cresol), the initial TOC removal rates were 60 mg C/h for Fenton and 120 mg C/h for Photo-Fenton. The intermediates obtained were hydroquinone, catechol, benzoquinone, maleic acid, and oxalic acid.

  • català

    S'ha estudiat la degradació d'o-cresol i p-cresol mitjançant processos d'oxidació avançada (AOPs) basats en Fenton. Els experiments van ser realitzats a pH = 3 i concentració inicial de 100 ppm per a tots dos cresols. A temps d'irradiació UV (360 nm) inferiors a 10 minuts tant l'o-cresol com el p-cresol van ser completament eliminats usant una concentració inicial en H2O2 de 400 ppm. Des del punt de vista de mineralització del compost, el procés Foto-Fenton (H20JFe(II)/UV) va resultar mes eficaç que el procés Fenton "H2O2/Fe(II)). Un 90% d'eliminació del carboni orgànic total (TOC) es va aconseguir per a 150 minuts d'irradiació UV usant una concentració inicial de H2O2 de 60 ppm. Per a tots dos compostos (o- i p-cresol), les velocitats inicials de l'eliminació de TOC van ser de 60 mg C/h per a Fenton i de 120 mg C/h per a Foto-Fenton. Els intermedis obtinguts van ser hidroquinona, catecol, benzoquinona, àcid maléico i àcid oxàlic.