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Polimerización por plasma y vaporización simultanea de un metal para la deposición de películas compuestas de polímero y metal

  • Autores: S. A. Sarmiento, Jaime Castro Blanco
  • Localización: Bistua: Revista de la Facultad de Ciencias Básicas, ISSN 0120-4211, Vol. 2, Nº. 2, 2004, págs. 55-61
  • Idioma: español
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  • Resumen
    • En el presente trabajo se describe el montaje de un reactor tipo barril excitado inductivamente, que la combinación de la deposición de películas en una descarga luminiscente de r.f (13,56 MHz), a través de un gas orgánico, con a deposición de un metal vaporizado a baja presión. Fueron obtenidos por ésta técnica, películas compuestas de polímero plásmico (PP) y metal (Ag, Ni, Ge), en substratos de vidrio de forma cuadrada de 1 cm de lado y 1 mm de grosor, a presión de 0,1 Torr y a una potencia de 30 W en la descarga de r.f.. Estas películas fueron analizados cualitativamente por Microscopía de Fuerza Atómica (MFA), espectroscopía Infra-Rojo (IR), Microscopía Electrónica de barrido (SEM), Difractometría de Rayos X (DRX) y pruebas de Resistencia vs Temperatura. Los análisis anteriores permitieron observar el aumento del proceso de deposición com el tiempo en las películas PP e identificar la fase correspondiente al PP, reportado en trabajos anteriores, y la fase del elemento vaporizado.

      Para las películas compuestas de PP y plata, fue observada la banda larga del polímero junto a a las reflexiones (111) y (200) de las líneas mas intensas de la plata.

      Las pruebas de R vs T presentan un comportamiento de conductor para algunas de estas películas mientras otros se apartan de él, permitiendo prever una conducción por mecanismo de impurezas, explicado por Mott.


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