Characterization of parasitic residual deposition on passivation layer in electroless nickel immersion gold process.

• Autores: M.K.Md. Arshad, A. Jalar, I. Ahmad
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 7, 2007, págs. 1120-1126
• Idioma: inglés
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