Optical and electrical characterization of hafnium oxide deposited by liquid injection atomic layer deposition.

• Autores: P. Taechakumput, S. Taylor, O. Buiu, R.J. Potter, P.R. Chalker, A.C. Jones
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 825-829
• Idioma: inglés
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