Distribution and generation of traps in SiO2/Al2O3 gate stacks.

• Autores: I. Crupi, R. Degraeve, B. Govoreanu, D.P. Brunco, P. Roussel, J. van Houdt
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 525-527
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)