Reliability study of ultrathin oxide films subject to irradiation-then-stress treatment using conductive atomic force microscopy.

• Autores: Y.-L. Wu, S.-T. Lin, T.-M. Chang, J.J. Liou
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 2-3, 2007, págs. 419-421
• Idioma: inglés
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