Sample tilting technique for preventing electrostatic discharge during high-current FIB gas-assisted etching with XeF2.

• Autores: H. Komoda, C. Moritani, K. Takahashi, H. Watanabe, K. Yasutake
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 1, 2007, págs. 74-81
• Idioma: inglés
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