Single band electronic conduction in hafnium oxide prepared by atomic layer deposition.

• Autores: S. Shaimeev, Valery Gritsenko, Kaupo Kukli, H. Wong, E.-H. Lee, C. Kim
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 1, 2007, págs. 36-40
• Idioma: inglés
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