Spatial characterization of Ar-Ti plasma in a magnetron sputtering system using emission and absorption spectroscopy

• Autores: M. Gaillard, N. Britun, L. Schwaederle
• Localización: Plasma sources: science & technology, ISSN 0963-0252, Nº. 4, 2006, págs. 790-796
• Idioma: inglés
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