Quantum chemical study of the initial surface reactions in atomic layer deposition of TiN on the SiO~2 surface

• Autores: W. Chen, S.-J. Ding, H.-L. Lu
• Localización: Journal of physics: Condensed matter, ISSN 0953-8984, Nº. 26, 2006, págs. 5937-5944
• Idioma: inglés
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