Bubble Point Pressure of the Solutions of H~2SiF~6 + H~2O and H~2SiF~6 + CO(NH~2)~2 + H~2O from 323 K to 353 K

• Autores: B.-L. Zhang, G.-L. Wang, C.-H. Hou
• Localización: Journal of chemical and engineering data, ISSN 0021-9568, Vol. 51, Nº. 3, 2006, págs. 864-866
• Idioma: inglés
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