Escalamiento dinámico y cinética de rugosidad en películas delgadas de PZT/SI(100)

• Autores: Alejandra Cortés Silva, W. Lopera, J. G. Ramírez, M. E. Gómez
• Localización: Revista de la Sociedad Colombiana de Física, ISSN-e 0120-2650, Vol. 38, Nº. 1, 2006, págs. 113-116
• Idioma: español
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• Resumen

  • Se realizó un estudio del escalamiento dinámico y la cinética de rugosidad usando imágenes de Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) de películas delgadas de Pb(Zr0.48Ti0.52)O3 (PZT) sobre substratos de Si(100). Las películas fueron crecidas por la técnica de Magnetrón RF-sputtering en altas presiones de oxigeno y a una temperatura de substrato aproximada de 600°C variando el tiempo de deposición y manteniendo los otros parámetros de deposición constantes. Usamos un algoritmo del cual se puede extraer a partir de las imágenes de AFM el valor cuantitativo de los parámetros de rugosidad, es decir, la rugosidad cuadrática media (s(l)), la longitud de correlación (x||), y el exponente de rugosidad (a). En este trabajo reportamos la dependencia de los parámetros que describen la rugosidad con el tiempo de deposición de las capas de PZT. Reportamos valores de a~0.7 que se mantienen para los diferentes tiempos de deposición (entre 15 y 60 minutos). Se obtuvo evidencia de escalamiento anómalo con un exponente local de aloc~0.55. Estos valores están en acuerdo con el modelo de crecimiento no lineal que toma en cuenta la difusión superficial (LDV).