157 nm Pellicles (Thin Films) for Photolithography: Mechanistic Investigation of the VUV and UV-C Photolysis of Fluorocarbons

• Autores: Marius Ivan, Robert C. Wheland, Nicholas J. Turro, David A. Dixon, Andre M. Braun, M. F. Lemon, Paul Zimmerman, Steffen Jockusch, Tatjana Widerschpan, Roger H. French
• Localización: Journal of the American Chemical Society: JACS, ISSN 0002-7863, Vol. 127, Nº. 23, 2005, págs. 8320-8327
• Idioma: inglés
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