Characterization of cathodic arc deposited titanium aluminium nitride films prepared using plasma immersion ion implantation

• Autores: D. G. McCulloch, S. H. N. Lim
• Localización: Journal of physics: Condensed matter, ISSN 0953-8984, Nº. 17, 2005, págs. 2791-2800
• Idioma: inglés
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