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Resumen de Contribuciones a la supervisión y optimización de procesos de soldadura mediante espectroscopia óptica de plasmas

Jesús María Mirapeix Serrano

  • La espectroscopía óptica engloba diferentes técnicas capaces de ofrecer soluciones en campos tan dispares como la monitorización medioambiental, la investigación farmacéutica, el estudio de obras de arte, restos arqueológicos o el análisis de compuestos, por citar algunos ejemplos.

    La monitorización en línea de procesos industriales, orientada al aseguramiento de la calidad de los mismos, constituye un área de aplicación de especial relevancia en los últimos años para este tipo de soluciones. Diversas propuestas pueden encontrarse en el sector alimenticio, de la fabricación de componentes electrónicos, o en la inspección de procesos de soldadura, por citar algunos ejemplos. Precisamente, los procesos de soldaduras láser y de arco son hoy en día elementos clave en nichos industriales tan relevantes como el aeronáutico, el automovilístico o el nuclear, donde la calidad es un parámetro fundamental en el proceso productivo. Por ello, la disponibilidad de un sistema sensor y de monitorización eficiente y fiable, capaz de asegurar la calidad de la soldadura en línea mediante la detección de posibles defectos, ha sido recientemente motivo de múltiples trabajos de investigación. Una de las alternativas más prometedoras reside en el empleo de técnicas basadas en la espectroscopía óptica de plasmas, ya que el análisis de la información espectral del plasma generado durante ele proceso de soldadura es capaz de ofrecer información relevante acerca del mismo. No obstante, se han detectado carencias referentes a las técnicas de procesado requeridas para la aplicación de este tipo de solución, así como en la implementación de sistemas sensores ópticos, entre otras. La mejora de la eficiencia de las técnicas espectroscópicas de análisis convencionales, entendidas como aquellas que se basan en la correlación entre un parámetro espectroscópico determinado (típicamente la temperatura electrónica del plasma) y la calidad del proceso, s


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