Tecnoestrés y satisfacción laboral: propuesta de un modelo causal

• Autores: Blanca López Araujo, María de la Fe Rodríguez Muñoz, Amparo Osca Segovia, María Dolores Martínez Pérez
• Localización: VI Semana de Investigación de la Facultad de Psicología: Madrid, 20-24 de noviembre de 2006 / Francisco Claro Izaguirre (aut.), 2006, ISBN 84-362-5451-1, pág. 102
• Idioma: español
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