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Influencia del Flujo de Nitrógeno en la Estructura, Dureza y Resistividad de Recubrimientos de TiSiNO

    1. [1] Univ. Veracruzana, México
    2. [2] Univ. del Papaloapan, México
    3. [3] Univ. Michoacana de San Nicolás de Hidalgo, México
  • Localización: Información tecnológica, ISSN-e 0718-0764, ISSN 0716-8756, Vol. 20, Nº. 1, 2009, págs. 21-28
  • Idioma: español
  • Títulos paralelos:
    • Influence of Nitrogen Flow on the Structure, Hardness and Resistivity of TiSiNO Coatings
  • Enlaces
  • Resumen
    • español

      Recubrimientos de TiSiNO fueron fabricados por la técnica de erosión catódica reactiva por corriente directa sobre sustratos de acero y silicio, utilizando un blanco de Ti y una pequeña placa de Si sobre una atmósfera reactiva de nitrógeno, oxigeno y argón. Usando el método de Warren-Averbach se analizaron los cambios estructurales de las muestras en función de la variación del flujo de nitrógeno. Cálculos estequiométricos, obtenidos de la técnica de espectroscopia de energía dispersada y corroborados por espectroscopia de descarga luminiscente, muestran que los recubrimientos se encuentran en la región de solución sólida de TiSixN(Oy) y SiNxOy, dominando la fase del oxinitruro de titanio. La muestra fabricada sobre sustratos de acero y silicio a un flujo de nitrógeno de 3 sscm, presentó el valor de dureza más alto y el valor de resistividad más bajo, respectivamente, debido a su estructura, orientación cristalina preferencial y fases cristalinas presentes en ella.

    • English

      Coatings of TiN and TiSiN were prepared by reactive direct current magnetron co-sputtering on steel and on silicon substrates, using a Ti target and a small Si plate in a reactive atmosphere of nitrogen, oxygen and argon. Using the Warren-Averbach method the structural changes were analyzed in function of the variation of the nitrogen flow. Stoichiometry calculations obtained by X-ray Energy Dispersive Spectroscopy and corroborated by Glow Discharge Spectroscopy, show that the TiSiNO coatings contain two solid solutions of TiSixN(Oy) and SiNxOy and have a strong domain on titanium oxynitrure phase. The sample made on steel and silicon wafers substrates with nitrogen flow of 3 sscm, presented the highest hardness and the lowest resistivity values, respectively, due to its preferential crystalline orientation, structure and crystalline phases present.


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