Fabricación y caracterización de capas delgadas de TiO2 para dispositivos ópticos biestables.

• Autores: Josep Mª Manssaneda, Josep Gutiérrez, Francesc Pi, J. Pagés, Jordi Pascual, Francesc Boixader, Gaspar Orriols
• Localización: Óptica pura y aplicada, ISSN-e 2171-8814, Vol. 26, Nº. 1, 1993, págs. 207-225
• Idioma: español
• Títulos paralelos:
  • Manufacture and characterization of TiO2 thin layers for optically bistable devices
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• Resumen

  • En este trabajo estudiamos la problemática de la fabricación de capas delgadas de TiO2 para su aplicación como dispositivos que presenten Biestabilidad Opto-Térmica con Absorción Localizada. Los dispositivos han sido realizados mediante deposición física de vapores (PVD). Se ha estudiado la influencia de la asistencia de iones (IAD), así como de otros parámetros característicos del proceso de evaporación, principalmente la temperatura del substrato. Las capas se han analizado con técnicas como la elipsometría, la espectroscopía de transmisión, la espectroscopía Raman o la difracción de rayos X. También se han utilizado la microscopía electrónica de barrido (SEM) y la microscopía de reflexión. Entre los resultados se presentan los ciclos de histéresis obtenidos con algunos de los dispositivos biestables construídos