Structural and morphological behavior of bismuth thin films grown through DC-magnetron sputtering

• Autores: Claudia Milena Bedoya Hincapié, Jhonattan De La Roche Yepes, Jhonattan Restrepo-Parra, Elisabeth Restrepo Parra, José Edgar Alfonso Orjuela, John Jairo Olaya Flórez
• Localización: Ingeniare: Revista Chilena de Ingeniería, ISSN-e 0718-3305, ISSN 0718-3291, Vol. 23, Nº. 1, 2015, págs. 92-97
• Idioma: inglés
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• Resumen
  • español

    En este trabajo se depositaron películas delgadas de bismuto sobre sustratos de vidrio mediante la técnica de sputtering con magnetrón DC y se evaluaron los efectos de la temperatura del sustrato en la microestructura de las películas. El comportamiento estructural se analizó mediante difracción de rayos X, mostrando una notable influencia de la temperatura del sustrato en el tamaño de cristalito y microestrés. La morfología evaluada por medio de imágenes de la microsonda electrónica, presentó una leve diferencia en el tamaño de grano con el incremento de la temperatura así como un significativo incremento de la rugosidad superficial, según medidas de perfilometría.

  • English

    Bismuth thin films were grown onto glass substrates through the DC magnetron sputtering technique. The effects of substrate temperature on the microstructure of the films were evaluated. The structural behavior was analyzed via X-ray diffraction, and it showed a marked influence of the substrate temperature on the crystallite size and the micro-stress. The morphologies evaluated through Electron Probe Micro-analyzer images indicated a slight difference in the grain size with an increase in temperature as well as a significant increase in surface roughness, according to profilometer measurements.