Colombia
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En este trabajo se presentan diferentes métodos empleados para el análisis de espectros ópticos de emisión. El propósito es calcular la temperatura de excitación (Texc), temperatura electrónica (Te) y densidad electrónica (ne) empleando diversas técnicas usadas en el crecimiento de películas delgadas. Algunas de estas técnicas incluyen magnetron sputtering y descargas n arco. Inicialmente, se describirán algunos principios fundamentales que soportan la técnica de Espectroscopía Óptica de Emisión (EOE); posteriormente, se considerarán algunas reglas que deben considerarse para elanálisis de espectros con el fin de evitar ambigüedades. Finalmente, se presentarán algunos d los métodos espectroscópicos más determinar las propiedades físicas de plasmas.PACS: 52.25.Dg, 31.15.V
In this work, different methods employed for the analysis of emission spectra are presented. The proposal is to calculate the excitation temperature (Texc), electronic temperature (Te) and electron density (ne) for several plasma techniques used in the growth of thin films. Some of these techniques include magnetron sputtering and arc discharges. Initially, some fundamental physical principles that support the Optical Emission Spectroscopy (OES) technique are described; then, some rules to consider during the spectral analysis to avoid ambiguities are listed. Finally, some of the more frequently used spectroscopic methods for determining the physical properties of plasma are described.PACS: 52.25.Dg, 31.15.V-
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