Propiedades estructurales, morfológicas y superficiales de sistemas ZrO2-SiO2

• Autores: Juan M. Marín, José Antonio Navío, Gloria Restrepo, Luis A. Ríos
• Localización: Revista de la Sociedad Colombiana de Física, ISSN-e 0120-2650, Vol. 37, Nº. 1, 2005, págs. 58-61
• Idioma: español
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• Resumen

  • La incorporación de un óxido a la matriz de un segundo produce cambios en las propiedades superficiales del sistema inicial, así como modificaciones en la estructura electrónica del material; de hecho, la recombinación de portadores de cargas en un material semiconductor se ve modificada por la incorporación de otro elemento a la red del semiconductor. El óxido mixto ZrO2-SiO2 fue preparado empleando el método sol gel de precipitación seguido de diversos tratamientos térmicos. Los materiales así obtenidos fueron caracterizados por diversas técnicas encontrándose que la textura, estructura y morfología de estos sistemas está fuertemente condicionada no sólo por el método de preparación sino por los tratamientos de calcinación.