Estudio de la deposición asistida pro plasma de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas
- Autores: Angel Yanguas Gil
- Directores de la Tesis: José Cotrino Bautista (dir. tes.), Agustín Rodríguez González-Elipe (codir. tes.)
- Lectura: En la Universidad de Sevilla ( España ) en 2005
- Idioma: español
- Número de páginas: 213
- Tribunal Calificador de la Tesis: José Manuel Casado Vázquez (presid.), Antonio Sola (secret.), José María Albella Martín (voc.), Francisco José Gordillo Vázquez (voc.), Luis Lemos Alves (voc.)
- Materias:
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- Tesis en acceso abierto en: Idus
- Resumen
La deposición asistida por plasma (PECVD) de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas es un proceso de gran interés debido a su posible aplicación en microelectrónica como materiales de baja constante dieléctrica o low-k. En este tipo de procesos las propiedades del material están determinadas por las condiciones de deposición, en las cuales el plasma juega un papel fundamental al controlar las especies que llegan a la superficie del materia.
En esta tesis se ha llevado a cabo el estudio experimental y teórico del plasma y de las láminas delgadas de SiOxCyHz obtenidas a partir de mezclas Ar/O2/tetrametilsilano. Desde el punto de vista experimental, se han utilizado técnicas como la espectroscopia óptica de emisión y la espectrometría de masas para el análisis del plasma, mientras que las láminas delgadas han sido caracterizadas por FT-IR, XPS y AFM. Mediante esta última técnica se ha llevado a cabo un estudio de la influencia que el tiempo de deposición y la escala de medida poseen en la rugosidad de las láminas delgadas.
Los resultados obtenidos se han puesto en relación con la denominada teoría del escalado dinámico.
Por otro lado, se ha llevado a cabo la simulación de descargas en Ar y O2 mediante un modelo global, el cual ha implicado el desarrollo de modelos cinéticos complejos de las especies presentes en los plasmas de estos gases. En el caso del Ar, para la construcción de dicho modelo se ha elaborado un nuevo juego de secciones eficaces para los diferentes procesos inelásticos por impacto electrónico. Asimismo, el proceso de deposición se ha simulado mediante modelos sencillos basados en técnicas de Monte Carlo dinámicas, a través de los cuales se ha puesto de manifiesto la influencia que diferentes parámetros, como la función de distribución de las partículas incidentes, tienen a la hora de determinar la microestructura de las láminas delgadas obtenidas.
