Estudio de películas aislantes de silicio, oxígeno y nitrógeno depositadas por plasma ECR-CVD

• Autores: María Jesús Hernández Muñoz
• Directores de la Tesis: Javier Garrido Salas (dir. tes.)
• Lectura: En la Universidad Autónoma de Madrid ( España ) en 1998
• Idioma: español
• Tribunal Calificador de la Tesis: Luis Bailon Vega (presid.), Eduardo Elizalde Pérez-Grueso (secret.), Tomas Rodríguez Rodriguez (voc.), Ignacio Martil De la Plaza (voc.), Juan Piqueras (voc.)
• Materias:
  • Física
    • Física del estado sólido
      • Dieléctricos
      • Propiedades ópticas
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• Resumen

  • Estudio de las propiedades opticas y electricas de peliculas de oxido, nitruro y oxinitruros depositadas sobre silicio mediante deposito en fase vapor asistido por plasma de resonancia ciclotron de electrones. Entre las propiedades estudiadas figuran la velocidad de deposito, el indice de refraccion, la composicion y la densidad de carga, evaluadas mediante elipsometria espectroscopica, espectroscopia IR, tecnicas electricas capacitativas y conductivas.