Sergi Gallego Rico, Manuel F. Ortuño Sánchez, Andrés Márquez Ruiz, Cristian Neipp López, Celia García Llopis, Augusto Beléndez, Inmaculada Pascual Villalobos
El interés por modelizar el comportamiento de los fotopolímeros se ha intensificado estos últimos años debido a su alta capacidad de almacenamiento de información. En este trabajo se propone un nuevo modelo simple e intuitivo para la modelización de la formación de una red de difracción holográfica en fotopolímeros. Se aplica en el estudio del comportamiento de un fotopolímero basado en PVA/acrilamida sin y con NN?, methylene-bis-acrylamide (BMAA)como entrecruzante. Por último también se valora la presencia de monómero residual predicha en el modelo. Palabras clave: holografía, materiales de registro holográfico, fotopolímeros.
The interest of the study of the behavior of photopolymers have a great deal in the last years for their capacity to store high density of information. The research in new models in order to explain the recording of a diffraction grating in photopolymers have good advances recently. In this work a new simple model to understand this process is proposed. This model is applied to analyze a PVA/acrylamide photopolymer and some important aspects as the presence of a crosslinker monomer, NN’,methylene-bis-acrylamide (BMA) and the existence of residual monomer are studied
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