Sergi Gallego Rico, Manuel F. Ortuño Sánchez, Cristian Neipp López, Helena Fernández Varó, Andrés Márquez Ruiz, Augusto Beléndez, Inmaculada Pascual Villalobos
Los fotopolímeros de espesor elevado constituyen una base óptima para la fabricación de memorias holográficas. A la hora de caracterizar estos materiales su espesor cercano al milímetro hace que los numerosos modelos existentes para estudiar capas delgadas deban ser reformulados teniendo en cuenta la absorción de la luz con la profundidad y los efectos derivados de este fenómeno. En este trabajo estudiamos la desviación del perfil sinusoidal almacenado en fotopolímeros de alrededor de 1 mm mediante un modelo que estudia el comportamiento del material en 3 dimensiones resuelto por diferencias finitas.
Thick photopolymers are the base to design holographic memories. The high thickness implies the reformulation of the 2-dimensional models to take into account the absorption of the light inside the material and the effects derived from this phenomenon. In this work we analyze deviation of the sinusoidal profile in the gratings stored in the photopolymer using 3-dimensional model solved by finite differences method.
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