Deposición y caracterización de películas de TiZrN mediante la técnica de arco pulsado

• Autores: O. Trujillo, Y.C. Arango, Alfonso Devia Cubillos
• Localización: Revista de la Sociedad Colombiana de Física, ISSN-e 0120-2650, Vol. 39, Nº. 1, 2007, págs. 135-138
• Idioma: español
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• Resumen
  • español

    Películas delgadas de TiZrN fueron crecidas por el método PAPVD (Deposición Física en Fase de Vapor Asistida por Plasma) utilizando la técnica de arco pulsado, en un sistema mono-evaporador, formado por un reactor en el cual se encuentran dos electrodos enfrentados (blanco y sustrato), un sistema de vacio y una fuente de potencia controlada. El crecimiento de las películas se realizo con un blanco de (TiZr) segmentado en forma circular, en atmosfera de N2, sobre sustratos de acero inoxidable (AISI) 304. Las películas fueron caracterizadas mediante las técnicas de Microscopia de Barrido por Sonda (SPM), Espectroscopia de Energia Dispersiva (EDS) y Difracción de rayos X (XRD), para calcular el tamaño de grano, realizar un análisis elemental y observar las diferentes orientaciones de crecimiento, parámetro de red y fases presentes respectivamente.

  • English

    The Plasma Assisted Physic Vapor Deposition (PAPVD) by the pulsed arc technique has been used for deposition of Titanium Zirconium Nitride TiZrN coatings, using a segmented target of TiZr. The deposition was performed in a vacuum chamber with two faced electrodes (target and substrate) using N2 as working gas, and a power-controlled source used to produce the arc discharges. Films were deposited on stainless steel (AISI) 304, and they were characterized using the Scanning Probe Microscopy, Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) and X-Ray Diffraction (XRD), in order to calculate size grain, to observe the different directions from growth and present phases.