Protocolo de valoracion de la efectividad de productos protectores de pizarras para cubiertas

• Autores: Víctor Cárdenes Van den Eynde, Javier García Guinea, Carmen Monterroso Martínez, Raúl de la Horra del Barco
• Localización: Materiales de construcción, ISSN 0465-2746, Vol. 58, Nº. 289-290, 2008 (Ejemplar dedicado a: Piedra natural), págs. 263-279
• Idioma: español
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• Resumen

  • España es líder mundial en producción de pizarras de techar; la producción supera las 600.000 toneladas de pizarra de gran calidad, suponiendo mas de 300 millones euros. La aplicación de la pizarra con productos protectores permite comercializar placas más oxidables reduciendo escombreras y problemas ambientales. El presente protocolo sirve para evaluar estos nuevos productos protectores que empiezan a utilizarse en el sector pizarrero. Se propone una combinación de tres ensayos tecnológicos junto con un cuestionario visual para otorgar índices de calidad. Cada ensayo está orientado para clarificar una propiedad importante en el uso de la pizarra de techar: (i) Ciclo térmico para determinar el grado de oxidación de los sulfuros de hierro; (ii) Exposición al gas SO2 para conocer su comportamiento en ambientes urbanos ácidos; (iii) Exposición a la niebla salina y rayos UV para evaluar la eficacia de la capa protectora frente a la corrosión salina y la radiación solar. Los ensayos físico-químicos han sido realizados en el Centro Tecnológico de la Pizarra de Orense mientras que las caracterizaciones químico-estructurales de las pizarras naturales, impregnadas y alteradas fueron realizadas por difracción de rayos X y microscopias ópticas y electrónicas de barrido en la Universidad de Santiago de Compostela. Los análisis cuantitativos de los grados de alteración, se han realizado con software libre (IMAGEJ) a partir imágenes de placas de pizarra muy planas tomadas con un escáner. El protocolo se ha experimentado con muestras de los productos protectores de pizarra más importantes que actualmente son siloxanos, resinas orgánicas y poliuretanos.